陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司
詳細(xì)摘要： 型號：Ｍ+-E150主要用途： 用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器...
產(chǎn)品型號：M+100-E所在地：西安市更新時間：2024-08-19 在線留言
詳細(xì)摘要： JA成立后2年內(nèi)，AJA就研發(fā)出了的ATC系列濺射系統(tǒng)，共焦濺射設(shè)備，帶旋轉(zhuǎn)基片和原位偏轉(zhuǎn)磁控濺射靶源。技術(shù)突破實現(xiàn)了薄膜均勻性，并且可以控制單層、多層以及合金...
產(chǎn)品型號：所在地：西安市更新時間：2024-01-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 用途：該機臺主要適用于6inch及以下尺寸各種襯底如硅片、化合物半導(dǎo)體晶片（GaAs,InP等）、玻璃片和陶瓷片等進行電鍍金工藝，適合研發(fā)和生產(chǎn)使用。用途：該機...
產(chǎn)品型號：M+100EE所在地：西安市更新時間：2023-12-12 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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